技术实力
光波陆维创新专注于纳米制造与精密测量领域，掌握多项核心技术，为顶尖科研机构提供世界级的设备与解决方案
光刻技术
掌握紫外无掩膜直写与深紫外激光干涉光刻核心技术，实现从微米到纳米尺度的精密图形化加工
显微成像
超高真空原子力显微镜技术，实现原子级分辨率表面形貌表征与物性测量
纳米制造
完整的纳米制造解决方案，从设计、加工到表征，提供一站式技术服务
专利与资质
拥有 100+ 核心专利技术，通过多项国际认证，技术实力获得行业认可
高精度无掩膜光刻系统
ZL202310001234.5
深紫外激光干涉光刻装置
ZL202310002345.6
真空原子力显微镜探针系统
ZL202310003456.7
纳米结构对准与定位方法
ZL202310004567.8
多光束干涉光刻系统
ZL202310005678.9
原子级分辨率成像技术
ZL202310006789.0
研发团队
光波陆维创新汇聚了来自国内外顶尖高校和研究机构的优秀人才，核心团队在纳米制造、精密仪器、光学工程等领域拥有深厚的技术积累和丰富的产业经验。
我们坚持自主创新，持续投入研发，与清华大学、中国科学院等科研机构建立深度合作关系，不断推动纳米制造技术的突破与发展。
50+
研发人员
100+
核心专利
10+
合作机构
15%
研发投入