产品中心
三大核心产品线，为顶尖科研机构与半导体企业提供纳米级精度的制造与表征解决方案
高精度紫外无掩膜光刻机
适用于快速原型验证和小批量生产，无需掩膜版，大幅降低研发成本
技术规格
| 分辨率 | ≤1μm |
| 加工面积 | 100mm × 100mm |
| 对准精度 | ≤0.5μm |
| 光源波长 | 365nm (i-line) |
| 曝光方式 | 直写式曝光 |
核心优势
- 无需掩膜版，降低研发成本 70%
- 快速原型验证，缩短开发周期
- 支持 CAD 文件直接导入
- 操作简便，维护成本低
- 适用于 MEMS、微流控、光电子器件
应用场景
MEMS 器件制造微流控芯片加工光电子器件研发柔性电子制备生物医学微结构